制藥廠廢氣處理設(shè)備

 
制藥廠廢氣處理設(shè)備工藝流程簡述

吸附－脫附單元完成生產(chǎn)線排出廢氣中有機(jī)溶劑的收集、吸附、脫附操作。

生產(chǎn)過程廢氣，先經(jīng)預(yù)處理裝置處理氣體中的一些高分子的物質(zhì)和空氣中的細(xì)小顆粒和水分，再經(jīng)冷卻器將溫度降至10℃以下（有低沸點(diǎn)二氯甲烷）。

經(jīng)處理后的廢氣進(jìn)入吸附－脫附單元，（共2組吸附罐，一吸一備/脫）有機(jī)尾氣被高性能活性碳材料吸附，空氣穿透吸附材料后排放至大氣。

被吸附的有機(jī)溶劑通過氮?dú)饷摳健Ｃ摳匠鰜淼挠袡C(jī)溶劑和氮?dú)饣旌蠚膺M(jìn)入由列管冷凝器組成的3級冷凝系統(tǒng)中進(jìn)行冷凝處理（一級冷凝器為節(jié)能目的，以初始熱氣加熱三級回流冷凝氣體回主循環(huán)，同時以三級冷氣體冷卻一級氣體），二級冷卻溫度為循環(huán)常溫水。三級冷卻溫度為零下7-15度。

表 2 生產(chǎn)廢氣吸附－脫附單元流程簡圖

每套吸附-脫附單元由2個吸附器組成，整個工藝過程由PLC 功能程序控制，自動切換，交替進(jìn)行吸附、脫附、間歇4個工藝過程。

圖表 3 吸附器吸附PLC 時序圖示意

脫附過程中蒸汽為非直接接觸活性炭，通過加熱盤管內(nèi)部通入蒸汽，間接加熱罐體內(nèi)循環(huán)氮?dú)猓诉^程為緩慢加熱，加熱溫度逐步增加。整個解析過程大概3-5小時。此過程全部為自動化控制。間接加熱活性炭，結(jié)合外部的加熱器，只須控制蒸汽閥門，就可把溫度控制在一定的范圍。由于是間接加熱，不會產(chǎn)生大量的蒸汽與溶劑的混合廢水，蒸汽產(chǎn)生的水只是普通冷凝水，無須特殊處理。同時活性炭在脫附結(jié)束后，無須進(jìn)行干燥處理。

制藥廠廢氣處理設(shè)備配備副罐（濃縮罐），此罐不參與車間與設(shè)備間的吸附。在脫附過程中，采用的是大風(fēng)量循環(huán)加熱，使得活性炭床快速升溫，短時間內(nèi)富集濃度（可達(dá)100克/立方米以上），為了合理配備換熱器的大小，不能將此廢氣全部冷卻，只能截取一部分（約20%）的氣體進(jìn)行多道冷卻，冷卻后的氣體降溫至10度以下，濃度急劇降低（10克/立方米），中間的濃度差通過液體的形式自流至分離系統(tǒng)。整個脫附以自流液體的結(jié)束而結(jié)束，但此時的循環(huán)濃度依然很高，在此情況下冷卻活性炭，活性炭的殘留濃度會偏高。所有在冷卻活性炭以前，即使沒有自流液體產(chǎn)生的情況下，還要繼續(xù)加熱循環(huán)一段時間，冷卻后的氣體導(dǎo)入副罐，經(jīng)副罐吸附以后再回主罐。副罐的作用是保主罐的低殘留。副罐定期脫附。

脫附過程少量不凝氣體會進(jìn)入分離系統(tǒng)，這部分氣體通過回氣管道回流再次進(jìn)入吸附系統(tǒng)。